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반도체용 건식 식각 장치로서 마주 보고 있는 두 개의 평형 판형 전극에 고주파 전원을 인가하여 플라즈마 상태에서 반응성 가스를 활성화 시켜 식각시키고자 하는 물질을 화학 반응을 일으켜 휘발성 물질로 만들어 식각하는 원리를 이용 합니다.
고주파 전원의 인가 전극에 웨이퍼가 놓이는 Cathode-Couple 방식은 접지 전극측에 웨이퍼가 놓이는 Anode-Couple 방식 보다 인가전압이 커 높은 이온 충격을 이용할 수 있는 특징이 있는 장비 입니다.
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