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RTA |
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RTA 급속진공 열처리로는 할로겐 히터를 이용하여 시편의 표면 온도를 급속하게 고온으로 올려 급속 열처리가 가능한 장비입니다.
반사 효율을 높이기 위해 반사경은 Au코팅이 되어 있으며 MFC를 이용하여 질소 가스 등을 일정하게 흘려 줌으로서 RTA의 가스 분위기를 조정 할 수 있습니다. 일반적으로 RTA는 반도체 재료의 전기적 특성 분석을 위한 전극 재료의 코팅 후 Annealing을 위해 사용하거나 TFT 분야 에서 비정질 실리콘의 열처리 조건을 바꾸어 줌에 따른 결정 변화를 관찰 하기 위해 이용 하고 있습니다.
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