ICP
   

 

 

   유도 결합형 플라즈마 장치 (ICP)는 유도 코일에 RF전력을

   공급하여 자기장이 발생하고, 이에 따라 유도된 전기장에

   의하여 반응기 중심에 전자를 가두어 낮은 압력에서도 고밀

   도 플라즈마를 생성합니다.

   

   이때 기판에 입사하는 이온에너지는 RF Bias 에 의해 독립적

   으로 제어되어 집니다.

   

   특히 ICP를 이용한 식각 기술은 이방성 식각을 용이하게 하고,

   높은 식각율을 얻을 수 있으며, 동시에 표면손상을 감소 시킬

   수 있는 장점이 있습니다.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

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